[发明专利]异质LIGA 方法有效
| 申请号： | 200980142873.3 | 申请日： | 2009-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN102197165A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | G·雷-梅尔梅特 | 申请（专利权）人： | 尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/00 | 分类号： | C25D1/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 柴智敏;吴鹏 |
| 地址： | 瑞士勒*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及制造金属显微结构的方法，该方法包括以下步骤：a)提供具有导电打底表面(2)的衬底(1、2)；b)-d)通过UV光刻法形成第一树脂模型(3b)，第一树脂模型中的开口露出衬底的导电打底表面(2)；e)通过在第一树脂模型(3b)的开口中电沉积第一金属材料来电铸第一元件(5)；f)除去第一元件(5)周围的第一模型(3b)以便露出衬底的导电打底表面(2)；g)-i)通过UV光刻法形成新的树脂模型(7b)，新树脂模型中的开口露出第一元件(5)及衬底的导电打底表面(2)；j)通过在新树脂模型(7b)的开口中电沉积第二金属材料来电铸第二元件(10)以便形成所述金属显微结构；k)使所述金属显微结构与衬底(1)和所述新模型(7b)分离。 | ||
| 搜索关键词： | 异质 liga 方法 | ||
【主权项】：
制造金属显微结构的方法，该金属显微结构至少包括用第一金属材料制成的第一元件(5)，该第一元件插入由第二金属材料制成的第二元件(10)中，其特征在于，所述方法包括以下步骤：a)提供具有导电打底表面(2)的衬底(1、2)；b)‑d)通过UV光刻法形成第一树脂模型(3b)，该第一树脂模型中的开口显露出衬底的导电打底表面(2)；e)通过在第一树脂模型(3b)的开口中电沉积第一金属材料来电铸第一元件(5)；f)除去第一元件(5)周围的第一模型(3b)以便露出衬底的导电打底表面(2)；g)‑i)通过UV光刻法形成新的树脂模型，在新树脂模型(7b)中的开口显露出第一元件(5)和衬底的导电打底表面(2)；j)通过在新树脂模型(7b)的开口中电沉积第二金属材料来电铸第二元件(10)，以便形成所述金属显微结构；k)使所述金属显微结构与衬底(1)和所述新模型(7b)分离。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司，未经尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980142873.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：图像拾取元件和图像拾取装置
- 下一篇：炼焦炉的焦炭挤出时发生的负荷的推测方法
