[发明专利]双栅极场效应晶体管和生产双栅极场效应晶体管的方法无效

专利信息
申请号: 200980143216.0 申请日: 2009-10-26
公开(公告)号: CN102203974A 公开(公告)日: 2011-09-28
发明(设计)人: D·M·德里兀;P·A·范哈尔;G·T·霍夫特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈松涛;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种双栅极场效应晶体管(1),包括第一和第二电介质层(6,7)、第一和第二栅电极(9,11)以及由至少一个源电极(3)、至少一个漏电极(4)和至少一个有机半导体(5)构成的组件(2),其中所述源电极(3)和所述漏电极(4)与所述半导体(5)接触,所述组件(2)位于所述第一电介质层(6)和所述第二电介质层(7)之间,所述第一电介质层(6)位于所述第一栅电极(9)和所述组件(2)的第一侧(8)之间,并且所述第二电介质层(7)位于所述第二栅电极(11)和所述组件(2)的第二侧(10)之间,其中所述有机半导体(5)为有机双极性传导半导体(12),其在所述组件(2)的第一侧(8)实现至少一个电子注入区域(18)并在所述组件(2)的第二侧(19)实现至少一个空穴注入区域(18)。本发明还包括具有至少一个场效应晶体管的对应的光发射装置、对应的传感器系统和对应的存储装置以及生产对应的双栅极场效应晶体管的方法。
搜索关键词: 栅极 场效应 晶体管 生产 方法
【主权项】:
一种双栅极场效应晶体管(1),包括第一和第二电介质层(6,7)、第一和第二栅电极(9,11)以及由至少一个源电极(3),至少一个漏电极(4)和至少一个有机半导体(5)构成的组件(2),其中‑所述源电极(3)和所述漏电极(4)与所述半导体(5)接触,‑所述组件(2)位于所述第一电介质层(6)和所述第二电介质层(7)之间,‑所述第一电介质层(6)位于所述第一栅电极(9)和所述组件(2)的第一侧(8)之间,并且‑所述第二电介质层(7)位于所述第二栅电极(11)和所述组件(2)的第二侧(10)之间,其特征在于所述有机半导体(5)是有机双极性传导半导体(12),其在所述组件(2)的第一侧(8)实现至少一个电子注入区域(18)并在所述组件(2)的第二侧(19)实现至少一个空穴注入区域(18)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980143216.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top