[发明专利]受控的机架不平衡有效
| 申请号： | 200980143818.6 | 申请日： | 2009-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN102202577A | 公开（公告）日： | 2011-09-28 |
| 发明（设计）人： | R·B·夏普莱斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;F16F15/32;G01M1/36 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种成像系统，包括静止框架(104)和可绕枢轴转动的框架(106)，可绕枢轴转动的框架可绕枢轴转动地附接到所述静止框架(104)并被配置成关于横轴(108)绕枢轴转动。旋转框架(110)，所述旋转框架由可绕枢轴转动部分(106)可旋转地支撑并被配置成关于纵轴(114)绕检查区域(112)旋转，以及旋转框架平衡器(118)有选择地引入旋转框架质量不平衡。辐射源(116)固定到所述旋转框架(110)并从焦斑发射辐射，其中，所述辐射贯穿所述检查区域(112)。探测器阵列(128)探测贯穿所述检查区域(112)的辐射并生成指示所述辐射的信号。 | ||
| 搜索关键词： | 受控 机架 不平衡 | ||
【主权项】：
一种成像系统，包括：静止框架(104)；能绕枢轴转动的框架(106)，其能绕枢轴转动地附接到所述静止框架(104)并被配置成关于横轴(108)绕枢轴转动；旋转框架(110)，其由所述能绕枢轴转动的框架(106)旋转地支撑并被配置成关于纵轴(114)绕检查区域(112)旋转；旋转框架平衡器(118)，其被配置成有选择地引入旋转框架质量不平衡；辐射源(116)，其固定到所述旋转框架(110)并从焦斑发射辐射，其中，所述辐射贯穿所述检查区域(112)；以及探测器阵列(128)，其探测贯穿所述检查区域(112)的辐射并生成指示所述辐射的信号。
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