[发明专利]散射仪和光刻设备

摘要

本发明提供一种用于测量衬底的性质的散射仪，包括焦距感测布置，其包括引导第一辐射束到聚焦布置上的布置(65)，以通过聚焦传感器布置(61)检测。聚焦控制器(67)提供表示聚焦布置(15、69)和衬底(W)的相对位置的控制信号，其中需要所述相对位置以将第一辐射束聚焦在衬底上。致动器布置依赖于控制信号调整聚焦布置的位置。照射布置使用聚焦布置引导第二辐射束到衬底上，测量检测器(18)在辐射束从衬底反射之后检测第二辐射束。焦距偏离布置调整由聚焦布置产生的焦距，以补偿第一辐射束和第二辐射束的聚焦之间的偏离。

主权项

一种散射仪，配置成测量衬底的性质，所述散射仪包括：聚焦布置；聚焦传感器；聚焦控制器，响应于所述聚焦传感器以提供有效地引起致动器布置调整所述聚焦布置和衬底的相对位置的控制信号，其中需要所述相对位置以在调整过程期间聚焦辐射束；和焦距偏离布置，适于提供偏离给聚焦布置产生的焦距，以补偿在所述调整过程期间所述散射仪的聚焦和在使用散射仪期间所述散射仪的聚焦之间的差异。