[发明专利]鳍式场效应晶体管(FINFET)有效

专利信息
申请号: 200980145755.8 申请日: 2009-09-10
公开(公告)号: CN102217074A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 乔尔本·多恩柏斯;罗伯特·兰德 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L21/336
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张浴月;张志杰
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种鳍式场效应晶体管,它的鳍(12)具有一上部分(30)与一下部分(32),上部分(30)进行了第一导电类型的掺杂,下部分(32)进行了第二导电类型的掺杂;其中上部分(30)与下部分(32)之间的结(34)作为二极管;鳍式场效应晶体管还包括:至少一层高k介电材料层(26,28)(例如,Si3N4),相邻于鳍(12)的至少一侧,当上部分(30)连接到一第一电位且下部分(32)连接到一第二电位从而产生穿过结(34)的电位降时,相较于如果不存在该至少一层高k介电材料层的情况,该至少一层高k介电材料层(26,28)用于更均匀地重新分配该二极管上的电位降。高k介电材料的k值例如是k≥5,k≥7.5,与k≥20。
搜索关键词: 场效应 晶体管 finfet
【主权项】:
一种鳍式场效应晶体管(100,200),包括:一半导体基材(20),具有一鳍(12);该鳍(12)具有一上部分(30)与一下部分(32),该上部分(30)掺杂一具有第一导电类型的掺杂质,该下部分(32)掺杂一具有第二导电类型的掺杂质;其中该上部分(30)与该下部分(32)之间的结(34)作为一二极管;该鳍式场效应晶体管(100,200)还包括:至少一层高k介电材料层(26,28),相邻于该鳍(12)的至少一侧,当该上部分(30)连接到一第一电位且该下部分(32)连接到一第二电位从而产生穿过该结(34)的一电位降时,相较于如果不存在该至少一层高k介电材料层的情况,该至少一层高k介电材料层(26,28)用于更均匀地重新分配该二极管上的电位降。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980145755.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top