[发明专利]外延反应器的反应室有效
申请号: | 200980146751.1 | 申请日: | 2009-11-20 |
公开(公告)号: | CN102224277A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
发明(设计)人: | 马里奥·普莱蒂 | 申请(专利权)人: | LPE公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/48;B01J19/02 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 李冬梅;郑霞 |
地址: | 意大*** | 国省代码: | 意大利;IT |
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摘要: | 本发明涉及基本上由中空的石英部件构成的外延反应器的反应室;该中空的石英部件包括具有圆柱体或棱柱体或圆锥体或棱锥体形状的石英部件部分(1)和设置在所述石英部件部分(1)中的轴向通孔(2);该石英部件部分(1)适合于根据三个方向中的两个界定反应和沉积区(3),并且适合于容纳在轴向通孔(2)内部被加热的至少一个基座(4)。该室设置有由基于石英的材料制成的且适合于将由基座(4)发出的红外辐射反射回去的反射层(5);该反射层(5)被应用于所述石英部件部分(1)和/或被应用于反应室的石英组件。 | ||
搜索关键词: | 外延 反应器 反应 | ||
【主权项】:
一种基本上由中空的石英部件构成的外延反应器的反应室,其中所述中空的石英部件包括具有圆柱体或棱柱体或圆锥体或棱锥体形状的石英部件部分(1;11)和设置在所述石英部件部分(1;11)中的轴向通孔(2;12),其中所述石英部件部分(1;11)适合于根据三个方向中的两个界定反应和沉积区(3;13),并且适合于容纳将在所述轴向通孔(2;12)内部被加热的至少一个基座(4;14),所述室的特征在于,所述室包括适合于将由所述基座(4;14)发出的在1,000nm和10,000nm之间,优选在1,500nm和3,000nm之间的波长范围内的红外辐射反射回去的反射层(5;15),其中所述反射层(5;15)由基于石英的材料制成,并且其中所述反射层(5;15)被应用于所述石英部件部分(1;11)和/或被应用于所述反应室的石英组件。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的