[发明专利]等离子体处理装置无效
申请号: | 200980149650.X | 申请日: | 2009-11-02 |
公开(公告)号: | CN102246604A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | 平山昌树 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人东北大学;东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01L21/205;H01L21/3065 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 微波等离子体处理装置(10)具有:处理容器(100);输出微波的微波源(900);与处理容器内的顶面邻接设置并将从微波源(900)输出的微波向处理容器内放射的电介质板(305);以及在电介质板(305)的等离子体侧的面与电介质板(305)邻接设置,并从周缘使电介质板(305)的一部分向处理容器内露出的菱形的金属电极(310)。金属电极(310)与电介质板(305)作为划分处理容器(100)的顶面的假想区域而被由与金属电极(310)的两条对角线(D1,D2)分别平行的各两条直线划定,将包括金属电极(310)与电介质板(305)的最小矩形区域作为单元区域Cel,单元区域Cel的长边长度与短边长度之比为1.2以下。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:处理容器,在内部使气体激励来对被处理体进行等离子体处理;电磁波源,被设置在所述处理容器的外部并输出电磁波;电介质板,与所述处理容器内的顶面邻接设置,并将从所述电磁波源输出的电磁波向所述处理容器内放射;以及菱形的金属电极,在所述电介质板的等离子体侧的面与所述电介质板邻接设置,并从周缘使所述电介质板的一部分向所述处理容器的内部露出,所述金属电极与所述电介质板作为划分所述处理容器的顶面的假想区域而被由与所述金属电极的两条对角线分别平行的各两条直线划定,将包括所述金属电极与所述电介质板的最小矩形区域作为单元区域,按照使所述单元区域长边的长度与短边的长度之比为1.2以下的方式来确定所述金属电极及所述电介质板的形状。
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