[发明专利]用于放大的3D视场的半圆反向偏移扫描无效
| 申请号： | 200980150149.5 | 申请日： | 2009-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN102245107A | 公开（公告）日： | 2011-11-16 |
| 发明（设计）人： | N·J·努尔德霍尔克 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈松涛;蹇炜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种计算机层析成像获取方法、一种成像系统、一种计算机可读介质提供：将辐射探测器(204)从具有中心横向视场并具有中心探测器几何结构的位置侧向移位至第一偏移位置(212)；由所述辐射源(202)发射第一辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第一辐射、并获取表示所述第一辐射的投射数据；绕所述旋转轴(214)旋转所述支撑体180°；由所述辐射源(202)发射第二辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第二辐射、并获取表示所述第二辐射的投射数据；以与所述第一移位(a)相反的方向和所述第一移位(a)两倍的长度将所述辐射源(204)从所述第一偏移位置侧向移位至第二偏移位置(226)；由所述辐射源(202)发射第三辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第三辐射、并获取表示所述第三辐射的投射数据；绕所述旋转轴(214)旋转所述支撑体180°；以及由所述辐射源(202)发射第四辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第四辐射、并获取表示所述第四辐射的投射数据。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 放大 视场 半圆 反向 偏移 扫描 | ||
【主权项】：
一种使用辐射探测器(204)和辐射源(202)的计算机层析成像方法，所述辐射探测器(204)和所述辐射源(202)均安装于支撑体上，所述支撑体可绕旋转轴(214)旋转，所述方法包括：a)将所述辐射探测器(204)从具有中心横向视场且具有中心探测器几何结构的位置侧向移位至第一偏移位置(212)；b)由所述辐射源(202)发射第一辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第一辐射、并获取表示所述第一辐射的投射数据；c)绕所述旋转轴(214)旋转所述支撑体180°；d)由所述辐射源(202)发射第二辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第二辐射、并获取表示所述第二辐射的投射数据；e)以与所述第一移位(a)相反的方向和所述第一移位(a)两倍的长度将所述辐射探测器(204)从所述第一偏移位置侧向移位至第二偏移位置(226)；f)由所述辐射源(202)发射第三辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第三辐射、并获取表示所述第三辐射的投射数据；g)绕所述旋转轴(214)旋转所述支撑体180°；h)由所述辐射源(202)发射第四辐射、由所述辐射探测器(204)探测所述第四辐射、并获取表示所述第四辐射的投射数据。
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