[发明专利]凸起状图案形成方法、曝光装置和光掩模

摘要

本发明是对涂敷了正性的感光材料的基板进行曝光的光掩模(3)，至少以规定的排列间距在透明基板上形成了如下掩模图案群：第1掩模图案群(16)，其以与基板上的高度不同的两种凸起状图案形成部对应的间隔具有与凸起状图案的横截面积大致相等的面积的第1遮光图案(20)；和第2掩模图案群(17)，其具有与两种凸起状图案形成部中高度较高的凸起状图案形成部对应的规定面积的第2遮光图案(22)、和与高度较低的凸起状图案形成部对应的开口图案(23)。由此，能够将高度不同的多种凸起状图案的顶部形成为大致半球面状。

主权项

一种凸起状图案形成方法，对涂敷了正性的感光材料的基板经由光掩模照射曝光光来对所述感光材料进行曝光，从而在所述基板上形成高度不同的多种凸起状图案，所述凸起状图案形成方法的特征在于，在使所述基板以一定速度向一个方向通过所述光掩模的下侧的同时，至少执行如下步骤：对与所述基板上的所述多种凸起状图案形成部对应地由所述光掩模遮光的第1遮光部的外侧区域进行规定次数的多重曝光的步骤；对与所述多种凸起状图案形成部中规定的凸起状图案形成部的大致中央部对应地由所述光掩模遮光的规定面积的第2遮光部的外侧区域、和所述规定的凸起状图案形成部以外的凸起状图案形成部进行规定深度的曝光的步骤；和对所述基板的感光材料进行显影处理的步骤。