[发明专利]具有加热的泻流孔的真空沉积源无效
| 申请号： | 200980155439.9 | 申请日： | 2009-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN102301032A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | S·W·普里迪;C·M·康伦 | 申请（专利权）人： | 维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种气相沉积源、系统及相关的沉积方法。提供与以难于控制的或者不稳定的方式蒸发或升华的材料一起使用的气相沉积源。本发明特别适用于沉积有机材料，例如用于在有机发光设备中形成一层或多层的那些有机材料。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 加热 泻流 真空 沉积 | ||
【主权项】：
一种真空沉积源，所述真空沉积源包括：罩，所述罩被配置为定位在真空沉积系统的真空室内，所述罩包括一个或多个能够相互分离的部分；阀，所述阀至少部分地定位在所述罩内，所述阀具有输入侧和输出侧；坩埚，所述坩埚包括封板，其中所述封板与所述阀的所述输入侧连通；喷嘴，所述喷嘴包括至少一个出口，所述喷嘴至少部分地定位在所述罩内，并且与所述阀的所述输出侧连通；加热设备，所述加热设备至少部分地包围所述阀；和阀致动器，所述阀致动器操作地连接到所述阀，并且配置为在真空中操作。
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