[发明专利]用于电磁跟踪系统的动态金属畸变补偿的系统和方法无效
申请号: | 200980156110.4 | 申请日: | 2009-11-10 |
公开(公告)号: | CN102307535A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | E·舍恩 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | A61B19/00 | 分类号: | A61B19/00;A61B17/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 舒雄文;蹇炜 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种使用电磁跟踪系统(EMTS)(10)进行动态金属畸变补偿的方法和系统,使用来自电磁场生成器(12)的电磁场。提供多个基准标记(14),每个基准标记具有至少一个电磁传感器(26),所述电磁传感器在多个传感器取向上取向,并且至少一些所述传感器邻近感兴趣的体积设置。对所述基准标记(14)进行成像,以提供所述基准标记在图像空间中的位置。使用所述EMTS来监视所述电磁传感器的位置读数。通过将所述基准标记在图像空间中的位置与所述电磁传感器的位置进行比较来计算金属畸变校正函数。还使用所述EMTS来跟踪移动通过所述感兴趣的体积的医学装置(16),并且将所述畸变校正函数施加于所述医学装置位置读数,以补偿所述金属畸变。 | ||
搜索关键词: | 用于 电磁 跟踪 系统 动态 金属 畸变 补偿 方法 | ||
【主权项】:
一种使用电磁跟踪系统(EMTS)(10)进行动态金属畸变补偿的方法,包括:从至少一个电磁场生成器(12)生成电磁场;提供多个基准标记(14),每个基准标记包括至少一个电磁传感器(26),所述电磁传感器在多个传感器取向上取向,并且至少一些所述传感器邻近感兴趣的体积设置;对所述基准标记进行成像,以提供所述基准标记在图像空间中的基线位置;使用所述EMTS来监视所述多个电磁传感器的位置读数;通过将所述基准标记在图像空间中的位置与所述电磁传感器在所述电磁场中的位置读数进行比较来计算金属畸变校正函数;使用所述EMTS来监视移动通过所述感兴趣的体积的医学装置(16)的位置读数,所述装置具有至少一个电磁传感器;将所述畸变校正函数施加于所述医学装置位置读数,以补偿所述金属畸变。
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