[发明专利]镀铬部件及其制造方法有效
| 申请号： | 200980156653.6 | 申请日： | 2009-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN102317504A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 菅原宗一郎;酒井浩史;P·哈特曼 | 申请（专利权）人： | 日产自动车株式会社;埃托特克德国有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C25D3/06;C25D3/12;C25D5/14 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供在正常和特定环境下具有耐腐蚀性并且镀铬后不需要额外处理的镀铬部件，以及提供此类镀铬部件的制造方法。镀铬部件1包括：基体2；亮镍镀层5b，其形成于整个基体2上；贵电势镍镀层5a，其形成于亮镍镀层5b上。亮镍镀层5b和贵电势镍镀层5a之间的电势差在40mV至150mV的范围内。镀铬部件1进一步包括：三价铬镀层，其形成于贵电势镍镀层5a上并且具有微孔结构和微裂纹结构的至少任何之一。 | ||
| 搜索关键词： | 镀铬 部件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种镀铬部件，其包括：基体；亮镍镀层，其形成于整个所述基体上；贵电势镍镀层，其形成于所述亮镍镀层上，其中，所述亮镍镀层和所述贵电势镍镀层之间的电势差在40mV至150mV的范围内；和三价铬镀层，其形成于贵电势镍镀层上并且具有微孔结构和微裂纹结构的至少任何之一。
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