[发明专利]测量涂层层厚度的系统和方法有效
| 申请号： | 200980158663.3 | 申请日： | 2009-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN102388288A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 马茨·本特马尔;列夫·克龙瓦尔 | 申请（专利权）人： | 利乐拉瓦尔集团及财务有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及测量沉积在基板(2)上的涂层层(7)厚度的系统和方法。在涂层从涂层辊(3)转移到基板(2)之前和之后测量涂层辊(3)上的涂层层(4，8)的厚度中从而间接测量基板(2)上的涂层层(7)的厚度。为测量涂层辊(3)上的涂层层(4，8)的厚度，使用两个指向涂层辊(3)上的各自层(4，8)的传感器(9，10)。所述传感器(9，10)有IR辐射体和IR探测器。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 涂层 厚度 系统 方法 | ||
【主权项】：
测量沉积在基板(2)上的涂层层(7)厚度的系统，其特征在于，通过在涂层辊(3)上的所述涂层沉积所述基板(2)上之前和之后的测量间接测量所述厚度。
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