[发明专利]干涉显微镜和测定装置

摘要

在向晶片等试样照射激光，并利用干涉仪观察并检查试样的表面内部的干涉显微镜和测定装置中，在分光器和参照镜之间设置用于引导光的参照光路，同时在分光器和试样之间设置用于引导光的测定光路，在参照光路和测定光路中设置光学光程差。而且，通过使参照镜发生微小量的倾斜，在检测单元形成干涉条纹。通过简单的结构，仅通过使参照镜稍微倾斜，测量晶片等试样(被测物)的表面形状，可以限定灰尘和磁极片等的准确坐标位置。

主权项

一种干涉显微镜，其特征在于，使用将具有有限的相干长度的光束一分为二而照射到试样和参照镜的双光束干涉仪来观察并检查试样表面的微细的凹凸和内部的高度信息，具有将波长和相干长度不同的来自两个光源的光束重合到同一轴上且整形为线光束之后射出的第一单元和对重合的两个光源光束进行分割的第二单元，设置通过第二单元向参照镜引导和照射两个光源光束且仅在线方向成像的参照光路、向试样成像和照射两个光源光束的光源像的聚光单元、会聚来自试样的微细的反射、散射光而转换为光束并进行引导的测定光路，具有在同一个检测单元中接收来自参照光路的反射光和来自测定光路的测定光的检测光路，通过在参照光路设置微小量的倾斜的光程差，在来自参照镜和试样的光束重合的位置形成具有试样面的线方向的高度分布情况的干涉条纹分布，由此无需进行试样和参照镜之间的相对距离的移动或根据波长扫描的干涉条纹的移动，即获得高度分布信息。