[发明专利]微光刻投射曝光设备以及测量有关包含在其中的光学表面的参数的方法

摘要

一种微光刻投射曝光设备包括光学表面(46；M6)以及测量装置(90)，该测量装置(90)测量在所述光学表面上的多个分开区域的关于光学表面的参数。所述测量装置包括照明单元(92)，其朝向所述光学表面的所述区域指引单独测量光束(94)。每个测量光束照明与所述测量光束关联的区域的至少一部分、以及不与所述照明光束关联的相邻区域的至少一部分。检测器单元(96)在每个测量光束与所述光学表面相互作用之后，测量每个测量光束的特性。评估单元(102)基于检测器单元(96)为与所选择的区域关联的测量光束以及与所选择的区域的相邻区域关联的至少一个测量光束所确定的特性，确定所选择的区域的表面相关参数。

主权项

一种微光刻投射曝光设备，包括光学表面(46；M6)以及测量装置(90)，所述测量装置(90)被构造为在所述光学表面(46；M6)上的多个分开的区域(Mij)处测量与所述光学表面有关的参数，所述测量装置(90)包括：a)照明单元(92)，其被构造为朝向所述光学表面上的所述区域(Mij)指引单独测量光束(94)，其中每个测量光束(94)照明与所述测量光束(94)关联的区域(Mij)的至少一部分，以及不与所述照明光束(94)关联的相邻区域(Mij)的至少一部分，b)检测器单元(96)，其被构造为在每个测量光束(94)与所述光学表面(46；M6)相互作用之后，测量每个测量光束(94)的特性，c)评估单元(102)，其被构造为：基于所述检测器单元(96)为i)与所选择的区域(MS)关联的测量光束(94)、以及ii)与所选择的区域(MS)相邻的区域(Mij)关联的至少一个测量光束(94)所确定的特性，确定所选择的区域(MS)的表面相关参数。