[发明专利]用于抛光半导体衬底的边缘的设备无效
| 申请号： | 201010003394.8 | 申请日： | 2010-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN101791780A | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | 沃尔特·施瓦岑贝格;塞巴斯蒂安·凯尔迪勒;阿齐兹·哈拉米-艾蒂里斯 | 申请（专利权）人： | 硅绝缘体技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于化学地和机械地抛光半导体衬底的边缘的设备，所述半导体衬底包括由基于离子注入步骤、结合步骤以及分离步骤的诸如Smart-CutTM的层转移工艺所产生的、在所述衬底的外围区域中的突出的残留形貌。为了能除去该台阶状区域，所述设备包括抛光垫，其中所述抛光垫被布置和构造成使得在与衬底保持器的表面垂直的平面中的所述抛光垫的横截面是弯曲的。本发明还涉及用于所述设备的垫保持器和用于抛光包括突出的残留形貌的半导体衬底的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 抛光 半导体 衬底 边缘 设备 | ||
【主权项】：
一种用于抛光半导体衬底的边缘的设备，所述半导体衬底包括由基于离子注入步骤、结合步骤以及分离步骤的层转移工艺所产生的、在所述衬底的外围区域中的突出的残留形貌，所述设备包括：用于容纳所述半导体衬底的衬底保持器，和抛光垫，其中，所述抛光垫被布置并且构造成使得在与所述衬底保持器的表面垂直的平面中的所述抛光垫的横截面是弯曲的。
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