[发明专利]微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统有效
| 申请号： | 201010004587.5 | 申请日： | 2005-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN101833247A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | M·门格尔;U·维格曼;A·厄尔曼;W·埃默;R·克莱门特;L·马蒂杰森 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种用于微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统，所述投影物镜被配置为将设置于所述投影物镜的物面中的图案成像到所述投影物镜的像面上，所述投影物镜被设计为浸没物镜，用于借助设置在所述投影物镜的物侧和像侧的至少一个上的浸液进行成像；其特征在于所述测量系统包括：至少一个具有测量结构的结构载体，该结构载体被设置在浸液区域中，给该结构载体分配一个保护系统，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。因此，在浸液条件下的浸液系统的测量在测量精确度方面，可能不受浸液的有害影响。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投影 曝光 系统 物镜 光学 测量 | ||
【主权项】：
一种用于微光刻投影曝光系统的投影物镜的光学测量的测量系统，所述投影物镜被配置为将设置于所述投影物镜的目标面中的图案成像到所述投影物镜的图像面上，所述投影物镜被设计为浸没物镜，用于借助设置在所述投影物镜的目标侧和图像侧的至少一个上的浸液进行成像；其特征在于所述测量系统包括：至少一个具有测量结构的结构载体，该结构载体被设置在浸液区域中，给该结构载体分配一个保护系统，以提高测量结构对由浸液导致的降解的抵抗力。
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