[发明专利]偏光片保护膜制造装置及其偏光片保护膜无效

专利信息
申请号: 201010005910.0 申请日: 2010-01-22
公开(公告)号: CN102135636A 公开(公告)日: 2011-07-27
发明(设计)人: 杨允斌;王嘉庆;林培伦;廖翔霖 申请(专利权)人: 硕正科技股份有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/10
代理公司: 北京申翔知识产权代理有限公司 11214 代理人: 周春发;艾晶
地址: 中国台湾桃*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明偏光片保护膜制造装置及其偏光片保护膜,保护膜藉由卷对卷(roll to roll)连续性制造装置所制成,使该上、下保护膜双面均为光滑面,且该上、下保护膜在可见光光谱的平均穿透率超过91%,且光线通过该上、下保护膜所产生的相位延迟不超过7nm,使该保护膜可取代习有TAC保护膜,并大为降低偏光片的成本。
搜索关键词: 偏光 保护膜 制造 装置 及其
【主权项】:
一种偏光片保护膜制造装置,其特征在于,其至少包含有:辅助载体;成型材料提供组件,该成型材料提供组件设于该辅助载体一侧提供成型材料,使该辅助载体上则布设有成型层,该成型材料为压克力系树脂;镜面轮,该镜面轮设于成型材料提供组件后方,且相对于该成型层上方,以对该成型层进行镜面处理;固化组件,该固化组件设于预成型组件后方,将该成型层固化成型;分离组件,该分离组件设于固化组件后方,以将该成型层与该辅助载体相互分离,而完成保护膜的成品。
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