[发明专利]一种用于表征铁电薄膜光电流的测量方法有效
| 申请号： | 201010018160.0 | 申请日： | 2010-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN101776709A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 郑分刚;沈明荣;方亮 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G01R19/00 | 分类号： | G01R19/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于表征铁电薄膜光电流的测量方法，包括：构建金属/薄膜/金属电容器结构；在电容器结构上施加外加电场，以极化薄膜；撤除外加电场，用光源从薄膜上方照射样品表面，采集记录稳定的光电流的大小；分别记录在不同的极化电压下的光电流大小，绘制成光电流回路；如果光电流回线的纵向对称中心处的电流值为正，则下界面肖特基势垒大于上界面肖特基势垒，为负，则上界面肖特基势垒大于下界面肖特基势垒，等于零，则上下界面肖特基势垒是对称的。本发明通过对光电流的检测，可以确定不同界面的肖特基垫垒和剩余极化对光电流的影响，而不需要采用大型高端设备，从而大大降低了测量成本，适于推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 表征 薄膜 电流 测量方法 | ||
【主权项】：
一种用于表征铁电薄膜光电流的测量方法，其特征在于：包括下列步骤：(1)在铁电薄膜上分别设置上电极和下电极，构成金属/薄膜/金属电容器结构；(2)在上述电容器结构上施加外加电场，以极化薄膜；(3)撤除外加电场，用光源从薄膜上方照射样品表面，采集记录稳定的光电流的大小；(4)重复步骤(2)和(3)，分别记录在不同的极化电压下的光电流大小；(5)以极化电压为横坐标，对应的光电流为纵坐标，将记录的光电流绘制成光电流回路；(6)光电流回线的纵向对称中心处的电流值用PC0表示，如果PC0为正，则下界面肖特基势垒大于上界面肖特基势垒，如果PC0为负，则上界面肖特基势垒大于下界面肖特基势垒，如果PC0等于零，则上下界面肖特基势垒是对称的。
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