[发明专利]优化RF MOS变容器布局的方法和RF MOS变容器有效

专利信息
申请号: 201010022697.4 申请日: 2010-01-12
公开(公告)号: CN102129481A 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 吴颜明 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50;H01L27/08;H01L29/417
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 李丽
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 优化RF MOS变容器布局的方法,包括:确定RF MOS变容器栅极条数目预定值;测试栅极条长度为不同值时对应的电容值随频率变化的衰减率,根据电容值的衰减率的范围确定栅极条长度范围;在栅极条长度范围内选取栅极条长度数值,测试栅极条数目为不同值时对应的电容值衰减率,根据电容值的衰减率的范围确定栅极条数目范围。本发明还提供基于上述方法形成的RF MOS变容器,所述RF MOS变容器的栅极条两侧的端部均通过接触孔与第一金属互连线电连接,栅极条长度范围为0.5~3微米,宽度范围为1~24微米,数目范围为2~12个。所述布局减小了RF MOS变容器的串联电阻Rs,抑制了高频时RF MOS变容器的电容衰减,提高了RF MOS变容器的调谐范围和品质因子。
搜索关键词: 优化 rf mos 容器 布局 方法
【主权项】:
一种优化RF MOS变容器布局的方法,其特征在于,包括:根据RF MOS变容器的栅极面积,确定RF MOS变容器栅极条数目预定值;根据栅极条数目预定值,测试栅极条长度为不同值时对应的电容值随频率变化的衰减率,根据电容值的衰减率的范围确定栅极条长度范围;在栅极条长度范围内选取栅极条长度数值,测试栅极条数目为不同值时对应的电容值随频率变化的衰减率,根据电容值的衰减率的范围确定栅极条数目范围。
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