[发明专利]电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的工艺方法无效
| 申请号： | 201010023127.7 | 申请日： | 2010-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN101748452A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 吕春雷;曹为民;赵永刚;杜美 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C25D3/56 | 分类号： | C25D3/56 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的工艺方法，属金属沉积电镀工艺技术领域。本发明提供了一种新的电镀液配方，且利用了传统常用的电镀工艺来制备Ni-Co-Mo三元合金镀层。本发明中所用的电镀液其配方中各组成及其重含量如下：Ni 30～60g/L，Co 1～10g/L，钼酸钠2～20g/L，硼酸20～50g/L，有机酸80～200g/L。电镀液的pH值为1～5；电镀液的温度为45～55℃。本发明中电镀基体即阴极为Cu-Cr-Zr合金，阳极为S-nickel即含硫活性镍饼，采用直流稳压电流，电镀时的电流密度为4A/dm2，电镀时间为5～6小时。本发明方法所制得的合金镀层具有很强的结合力，而且具有较高的硬度、较好的耐蚀性和耐磨损性。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 制备 ni co mo 三元 合金 镀层 工艺 方法 | ||
【主权项】：
一种电沉积制备Ni-Co-Mo三元合金镀层的电镀液，其特征在于该电镀液具有以下的组成及重量含量：Ni 30～60g/L；选自硫酸镍，氨基磺酸镍中的任一种；Co 1～10g/L；选自硫酸钴、氨基磺酸钴中的任一种；Na2MoO4·2H2O 2～20g/L；硼酸 20～50g/L；有机酸 80～200g/L；选自柠檬酸，酒石酸的任一种或两种；有机酸与全部金属离子的摩尔量比，即有机酸∶全部金属离子＝1.1∶1；电镀液的pH值为1～5；用相应酸或氢氧化钠进行调节；电镀液的温度为50±5℃。
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