[发明专利]L形硅锗异质结晶体管及其制备方法无效
申请号: | 201010027239.X | 申请日: | 2010-01-08 |
公开(公告)号: | CN102122667A | 公开(公告)日: | 2011-07-13 |
发明(设计)人: | 陈帆;张海芳;徐炯;周郑良 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/737 | 分类号: | H01L29/737;H01L21/331 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 孙大为 |
地址: | 201206 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种L形硅锗异质结晶体管及其制备方法,包括:相对于器件有源区的非对称分布的埋层;埋层与器件本征集电极区相交,形成一L形,集电极引出的通道从器件的一侧引出;另一侧衬底与集电区相接。本发明实现非对称硅锗异质结晶体管,通过降低埋层面积,有效降低基区-集电区耦合电容和集电区-衬底耦合电容,提高晶体管的截止频率,从而实现器件的高频应用。 | ||
搜索关键词: | 形硅锗异质 结晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种L形硅锗异质结晶体管,其特征在于,包括:相对于器件有源区的非对称分布的埋层;埋层与器件本征集电极区相交,形成一L形,集电极引出的通道从器件的一侧引出;另一侧衬底与集电区相接。
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