[发明专利]低反射光学界面层及其制备方法无效
| 申请号： | 201010028158.1 | 申请日： | 2010-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN101770042A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 王跃川;姜浩 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;C08J9/26;C08J7/04;C03C17/25;C03C17/28 |
| 代理公司： | 成都科海专利事务有限责任公司 51202 | 代理人： | 吕建平 |
| 地址： | 610065四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低反射光学界面层及其制备方法，界面层是由沉积在基材上的纳米粒子形成的纳米多孔粒子膜，膜层厚度为50～200nm，膜层中孔洞尺寸为50～200nm，膜层的空隙率为30～75％。制备步骤包括：(1)将不少于2种纳米粒子配制成质量浓度为0.3～8.0％的分散液；(2)将纳米粒子分散液沉积在基材上形成纳米粒子复合膜；(3)选择性地去除纳米粒子复合膜中的牺牲成分；(4)还可以在有机粒子和有机基材的玻璃化转变温度附件热处理一定时间。本发明提供的低反射率光学界面层，在入射电磁波360-900nm的范围内反射率低于1％，最低处的反射率低于0.5％，且与基材结合强度高，光学性能稳定。光学界面层制备工艺简单，适合在大面积的无机和有机基材上制备低反射率的光学界面层。 | ||
| 搜索关键词： | 反射光 学界 面层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低反射光学界面层，其特征是由沉积在基材上的纳米粒子形成的纳米多孔膜，膜层厚度为50～200nm，膜层中孔洞尺寸在50～200nm，膜层的空隙率为30～75％。
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