[发明专利]偏硅酸钠溶液加压脱杂的工艺无效
| 申请号： | 201010039103.0 | 申请日： | 2010-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN101774597A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 杨大锦;臧健;赵群;李怀仁;和晓才;李永刚;李永佳;李小英 | 申请（专利权）人： | 云南冶金集团股份有限公司技术中心 |
| 主分类号： | C01B33/32 | 分类号： | C01B33/32 |
| 代理公司： | 昆明正原专利代理有限责任公司 53100 | 代理人： | 陈左 |
| 地址： | 650051云南*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 一种偏硅酸钠溶液加压脱杂的工艺，采用工业用偏硅酸钠溶液经中和脱杂，高温加压脱Al、Ti和Fe，获得的偏硅酸钠溶液经蒸发结晶，即得到高纯偏硅酸钠；本工艺流程短，容易实现工业化生产，其中铝、钛、铁等杂质高效脱去；同时脱杂过程中产出的中和渣、脱Al渣、脱Ti和Fe渣返回焙烧系统，工艺过程形成封闭循环体系，对环境不构成污染，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 硅酸钠 溶液 加压 工艺 | ||
【主权项】：
一种偏硅酸钠溶液加压脱杂的工艺，其特征在于步骤是：(1)工业偏硅酸钠溶液与浓度5～15g/L的中和剂氢氧化钠直接搅拌进行中和反应脱杂质，控制温度在50～80℃，pH到12.5～13.5后过滤，得到偏硅酸钠滤液及中和渣；(2)中和反应除杂后的偏硅酸钠滤液与浓度10～20g/L的除Al剂碳酸钙调浆后直接加入加压釜，控制温度120～220℃，压力1.0MPa～1.6MPa，反应时间为2～5h，反应时间到后降至常温常压，过滤，获得脱Al的偏硅酸钠滤液及含Al渣；(3)脱Al后的偏硅酸钠滤液与浓度5～15g/L的除Ti和除Fe剂氢氧化钙调浆后加入加压釜，控制温度180～220℃，压力1.2MPa～1.8MPa，反应时间为2～5h，反应时间到后降至常压常温，过滤，获得脱Ti、Fe的偏硅酸钠滤液及含Ti、Fe渣；(4)脱Al、Ti、Fe后的偏硅酸钠溶液经蒸发结晶，获得合格的高纯偏硅酸钠。
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