[发明专利]一种铝熔体提纯金属硅的方法有效

专利信息
申请号: 201010040053.8 申请日: 2010-01-19
公开(公告)号: CN101759188A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 杨德仁;顾鑫;余学功 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种铝熔体提纯金属硅方法,包括如下步骤:首先将金属硅去油、洗净得到洗净后的金属硅;再将铝熔体倒入洗净后的金属硅中,让洗净后的金属硅表面附着一层铝熔体,冷却凝固;将冷却凝固的的产物在惰性气氛中加热、保温,冷却至室温后用盐酸和氢氟酸混合溶液浸泡数小时,用去离子水清洗干净。本发明利用了硅中铝吸杂的原理,对金属硅中的杂质进行初步的吸杂处理,得到较纯的硅材料,以用于后续的提纯工艺,是一种低成本、低能耗、简便易行的物理法提纯制备太阳能级硅的方法,能将金属硅纯度初步提纯到99.99%~99.999%(4~5N),可以作为太阳能电池用硅材料或进一步提纯的原料。
搜索关键词: 一种 铝熔体 提纯 金属硅 方法
【主权项】:
一种铝熔体提纯金属硅方法,其特征在于:包括如下步骤:1)将金属硅去油、洗净得到洗净后的金属硅;2)将铝熔体倒入洗净后的金属硅中,让洗净后的金属硅表面附着一层铝熔体,冷却使铝熔体凝固;3)将步骤2)的产物在惰性气氛中加热至600~950℃,保温2~10h,冷却至室温;4)将步骤3)的产物取出,用质量百分比浓度为5%~20%的盐酸和质量百分比浓度为1%~10%的氢氟酸按体积比1∶1浸泡1~5个小时,用去离子水清洗干净。
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