[发明专利]修整光致抗蚀剂图案的方法无效
| 申请号： | 201010105786.5 | 申请日： | 2010-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102141742A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | 林盈志;周珮玉;廖俊雄;冯郅文;张峰溢;蔡尚元 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/36 | 分类号： | G03F7/36 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种于修整光致抗蚀剂图案的方法，以氮气做为蚀刻气体，并且以适当的蚀刻速率修整光致抗蚀剂图案，其方法如下：首先提供一待蚀刻材料层覆有一图案化光致抗蚀剂层，然后进行一削除光致抗蚀剂制作工艺，以氮气修整图案化光致抗蚀剂层的边缘，最后，以修整后的图案化光致抗蚀剂层为掩模，蚀刻待蚀刻材料层。 | ||
| 搜索关键词： | 修整 光致抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种修整光致抗蚀剂图案的方法，包含：提供一待蚀刻材料层覆有一图案化光致抗蚀剂层；进行一削除光致抗蚀剂制作工艺，以氮气修整该图案化光致抗蚀剂层的边缘；以及以该修整后的图案化光致抗蚀剂层为掩模，蚀刻该待蚀刻材料层。
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