[发明专利]由含铜溶液制备氧化铜的方法无效
| 申请号： | 201010106308.6 | 申请日： | 2010-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN102134090A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | 江德馨 | 申请（专利权）人： | 联鼎电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C01G3/02 | 分类号： | C01G3/02 |
| 代理公司： | 北京市中联创和知识产权代理有限公司 11364 | 代理人： | 高龙鑫 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种由含铜溶液制备氧化铜的方法，包括下列步骤：取得含铜溶液；调整含铜溶液的pH值以形成具有第一pH值的第一含铜溶液及含铁沉淀物；调整第一含铜溶液的第一pH值以形成具有第二pH值的第二含铜溶液及第一含铜沉淀物；将第一含铜沉淀物形成具有第三pH值的第三含铜溶液及第二含铜沉淀物；以及分离第三含铜溶液及第二含铜沉淀物，其中第二含铜沉淀物包括氧化铜。 | ||
| 搜索关键词： | 溶液 制备 氧化铜 方法 | ||
【主权项】：
一种由含铜溶液制备氧化铜的方法，包括下列步骤：取得该含铜溶液；调整该含铜溶液的pH值以形成具有一第一pH值的一第一含铜溶液，其中在该第一pH值的条件下，该含铜溶液的一铁离子形成一含铁沉淀物以进行分离。调整该第一含铜溶液的该第一pH值以形成具有一第二pH值的一第二含铜溶液及一第一含铜沉淀物；将该第一含铜沉淀物形成具有一第三pH值的一第三含铜溶液及一第二含铜沉淀物；以及分离该第三含铜溶液及该第二含铜沉淀物，其中该第二含铜沉淀物包括氧化铜。
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