[发明专利]一种制备中空透射型法布里-珀罗腔滤波器的方法无效

专利信息
申请号: 201010108642.5 申请日: 2010-02-08
公开(公告)号: CN101806961A 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: 甄红宇;李国龙;周可余;刘旭 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G02F1/03 分类号: G02F1/03;G02F1/21
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种制备中空透射型法布里-珀罗腔滤波器的方法,包括如下步骤:在下基板上依次形成下介质高反膜层和中空的下薄膜电极层;下介质高反膜层和下薄膜电极层中至少一层的上表面经过表面能改性,使下薄膜电极层的表面能高于下介质高反膜层的表面能;再将压电聚合物选择性地沉积在薄膜电极层上,形成聚合物薄膜层;在聚合物薄膜层上蒸镀形成上薄膜电极层;在上薄膜电极层上依次覆盖上介质高反膜层和上基板。本发明利用压电聚合物这种特性,可制备中空透射型法布里-珀罗腔(F-P)滤波器,制备聚合物薄膜层的同时,就形成所需要的内腔图形,方法工艺简单易行,不损伤聚合物薄膜层,能较好地保证聚合物薄膜层的压电特性。
搜索关键词: 一种 制备 中空 透射 型法布里 珀罗腔 滤波器 方法
【主权项】:
一种制备中空透射型法布里-珀罗腔滤波器的方法,其特征在于:包括如下步骤:1)在下基板(105)的上表面依次形成下介质高反膜层(104)和中空的下薄膜电极层(103);所述的下介质高反膜层(104)和下薄膜电极层(103)中至少一层的上表面经过表面能改性,使下薄膜电极层(103)的表面能高于下介质高反膜层(104)的表面能;2)将压电聚合物选择性地沉积在下薄膜电极层(103)上,形成聚合物薄膜层(101);3)在聚合物薄膜层(101)上通过掩膜蒸镀上薄膜电极层(102),形成中空透射型法布里-珀罗腔滤波器下半部分;4)在上基板(107)上蒸镀上介质高反膜层(106),形成中空透射型法布里-珀罗腔滤波器上半部分;5)将中空透射型法布里-珀罗腔滤波器下半部分的上薄膜电极层(102)与中空透射型法布里-珀罗腔滤波器上半部分的上介质高反膜层(106)对准、压紧,并在薄膜电极层(102)与上介质高反膜层(106)接触面的外边缘通过紫外曝光胶固定,形成中空透射型法布里-珀罗腔滤波器。
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