[发明专利]一种以太阳光为曝光光源制作微流控芯片的方法及其应用无效
| 申请号： | 201010112969.X | 申请日： | 2010-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN102162997A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 秦建华;马静云;姜雷;李艳峰;林炳承 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00;C12M3/00 |
| 代理公司： | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人： | 张晨 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种以太阳光为曝光光源制作微流控芯片的方法及其应用，本发明以自然界中最易获得的太阳光作为曝光光源，避免了常规光刻中较为昂贵的光刻机的使用，待曝光的光刻胶平板放在与太阳光相垂直的方向曝光即可，通过UV能量检测器校正阳光下的曝光时长，可以得到光刻胶上各种尺寸微图案良好的曝光结果；这种方法简易、廉价、易于操作、环境友好，而且可以进行芯片的批量生产，期望有益于仪器购买基金不足或处于起步阶段的实验室进入到微流控芯片领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 以太 阳光 曝光 光源 制作 微流控 芯片 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
以太阳光为曝光光源制作微流控芯片的方法，将待曝光的光刻胶平板放在与曝光光源相垂直的方向曝光，根据UV能量计检测到的阳光中UV强度、光刻胶的种类及所需芯片阳模的三维尺寸，优化及校正曝光条件，得到光刻胶上各种微图案的曝光结果，在此条件下得到的模板用以制作微流控芯片装置；其特征在于：所述的曝光光源为太阳光。
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