[发明专利]用于从基片上除去光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物的组合物及其应用有效
| 申请号： | 201010113978.0 | 申请日： | 2005-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN101794088A | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | M·I·埃格贝;D·G·詹宁斯 | 申请（专利权）人： | 气体产品与化学公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;C11D7/32;C11D7/26;C11D7/50;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘健;林森 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 含有一些有机溶剂和季铵化合物的组合物能够将残留物例如光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物从物品上除去，其中所述有机溶剂包含至少505重量的二醇醚。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基片上 除去 光致抗蚀剂 蚀刻 残留物 组合 及其 应用 | ||
【主权项】：
用于除去残留物的组合物，所述组合物包含：a)50％重量或大于50％重量的包含二醇醚的有机溶剂和辅助有机溶剂，其中至少50％的有机溶剂是二醇醚，并且其中所述辅助有机溶剂包含至少一种选自C2-C20烷二醇、C3-C20烷三醇、环状醇或取代的醇的有机溶剂；b)0.5％重量-15％重量的季铵化合物；和c)大于0至最高达20％重量的腐蚀抑制剂，其中所述腐蚀抑制剂是至少一种选自有机酸、有机酸盐、酚、三唑类化合物、羟基胺化合物和羟基胺化合物酸式盐及其混合物的抑制剂。
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