[发明专利]影像测量系统及方法无效
申请号: | 201010114989.0 | 申请日: | 2010-02-26 |
公开(公告)号: | CN102168945A | 公开(公告)日: | 2011-08-31 |
发明(设计)人: | 张旨光;丁勇红;陈贤艺;蒋理;李东海 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/03 |
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地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种影像测量系统及方法,包括:获取模块,用于获取每个工件的影像,测量工具和待测测量特征;创建模块,用于对该第一工件创建第一基准坐标系;记录模块,用于记载所述测量特征在该第一基准坐标系中的相对坐标值;测量模块,用于利用所述获取模块获取的测量工具测量该第一工件的测量特征;记录模块,还用于存储第一工件的测量参数;当测量与第一工件形状相同的第二工件时,计算模块用于根据测量特征在第一基准坐标系中的相对坐标值,确定该测量特征在该第二工件影像上的位置;调用模块,用于调用第一工件的测量参数;及测量模块,还用于根据调用的测量参数,对该第二工件的影像进行测量。利用本发明,可以对工件影像进行快速测量。 | ||
搜索关键词: | 影像 测量 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种影像测量系统,包括主机和影像测量机台,其特征在于,该主机包括测量单元,该测量单元包括:获取模块,用于获取影像测量机台扫描每个工件得到的影像,并获取用户选择的测量工具和每个工件的待测测量特征;创建模块,用于对该第一工件创建第一基准坐标系;记录模块,用于记载该第一工件的待测测量特征在该第一基准坐标系中的相对坐标值;测量模块,用于利用上述测量工具测量该第一工件的待测测量特征;所述记录模块,还用于存储第一工件的测量参数;所述创建模块,还用于当测量与第一工件形状相同的第二工件时,对第二工件创建第二基准坐标系,所述待测测量特征在该第二基准坐标系中的相对坐标值与该待测测量特征在第一基准坐标系中的相对坐标值相同;计算模块,用于根据所述待测测量特征在第一基准坐标系中的相对坐标值,确定该待测测量特征在该第二工件的影像上的位置;调用模块,用于调用第一工件的测量参数;及所述测量模块,还用于根据调用的测量参数,对该第二工件进行测量。
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