[发明专利]苯并三唑抗紫外线辐射活性染料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010116018.X 申请日: 2010-03-02
公开(公告)号: CN101880470A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 赵德峰;何亮;简卫;陈美芬 申请(专利权)人: 浙江吉华集团有限公司
主分类号: C09B62/51 分类号: C09B62/51;C09B62/513;C09B67/24;D06P1/382;D06P1/384
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 俞润体
地址: 311228 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种苯并三唑抗紫外线辐射活性染料及其制备方法。它需要解决的技术问题是,使抗紫外线辐射波长范围更宽,效果更好。本发明染料为结构如通式(Ι)所示的化合物,它是一种混合双活性基染料,其结构包含活性染料母体D、连接桥基(三聚氯氰基)、紫外吸收基团(苯并三唑基)三部分,属于混合型双活性基染料。其制备方法包括如下步骤:a)一次缩合;b)重氮偶合;c)二次缩合;d)盐析或者直接喷干得到染料粉末。
搜索关键词: 三唑抗 紫外线 辐射 活性染料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种抗紫外线辐射活性染料,其特征在于其结构如通式(Ι)所示:(Ι)其中,X为卤素;Y为H,C1~C6的烷基,C1~C8的烷氧基或-SO3M,其中M=H或碱金属原子;D选自下式所示化合物:(D1),(D2),(D3),(D4), 其中,A为,R1为-C2H4OSO3M、-C2H4SSO3M或-CH=CH2,R2为-H、-SO3M或-OR4,R3为-H、C1~C4的烷烃或-OR4,R4为C1~C4的烷烃,M为H或碱金属原子。
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