[发明专利]一种抗刮擦涂层及其制备方法无效
| 申请号： | 201010117074.5 | 申请日： | 2010-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN101792564A | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | 孙俊奇;刘小孔 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | C08L33/02 | 分类号： | C08L33/02;C08K3/26;C09D133/02;B05D5/08 |
| 代理公司： | 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 | 代理人： | 张景林;刘喜生 |
| 地址： | 130012 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种带有负电荷的构筑基元溶液、由该构筑基元溶液制备的抗刮擦涂层，及构筑基元溶液和抗刮擦涂层的制备方法。构筑基元溶液是包含弱聚阴离子、钙离子和碳酸根离子的复合溶液。抗刮擦涂层的制备首先是在基底表面引入氨基、羧基或羟基，然后将基底交替置于上述的构筑基元溶液和弱聚阳离子的水溶液中，利用层状组装技术制备厚度可控的层状组装膜涂层；最后将上述所得到的涂层经80～250℃热处理0.5～20小时，可制得透明的高硬度抗刮擦涂层。该涂层可以作为其他功能膜材料的抗刮擦保护涂层，且具有成本低廉，方法简单，不需要复杂的仪器设备的特点，而且不受基底形状大小的限制，所以有望在日常生产生活中有着广泛的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抗刮擦 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种带有负电荷的构筑基元水溶液，其特征在于：是包含弱聚阴离子、钙离子和碳酸根离子的复合溶液，其中，弱聚阴离子的浓度为0.02～1.5mol/L，钙离子的浓度为0.01～2mol/L，碳酸根离子的浓度为弱聚阴离子浓度的10％～90％。
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