[发明专利]光刻机物镜顶板的检测装置及调整方法有效

专利信息
申请号: 201010118854.1 申请日: 2010-03-05
公开(公告)号: CN102193322A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 施胜男;姜福君 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/00
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及光刻机物镜顶板的检测装置及调整方法,该装置包括下板组件、上板组件、自准直望远镜和物镜顶板参考镜;所述自准直望远镜的出射光束入射到所述下板组件上,入射到所述下板组件的光束一部分直接被所述下板组件反射回所述自准直望远镜,其余部分则经所述下板组件反射后射入所述上板组件,射入所述上板组件的光束经所述上板组件多次反射后射到所述物镜顶板参考镜上,经所述物镜顶板参考镜反射后沿原光路返回所述自准直望远镜。本发明涉及光刻机物镜顶板的检测装置及调整方法通过检测所述自准直望远镜的出射光束与所述物镜顶板参考镜的反射光束的平行度,可调整物镜顶板的上表面在Rz方向上的位置,且调整精度高。
搜索关键词: 光刻 物镜 顶板 检测 装置 调整 方法
【主权项】:
一种光刻机物镜顶板的检测装置,其特征在于,包括下板组件、上板组件、自准直望远镜和物镜顶板参考镜;所述自准直望远镜的出射光束入射到所述下板组件上,入射到所述下板组件的光束一部分直接被所述下板组件反射回所述自准直望远镜,其余部分则经所述下板组件反射后射入所述上板组件,射入所述上板组件的光束经所述上板组件多次反射后射到所述物镜顶板参考镜上,经所述物镜顶板参考镜反射后沿原光路返回所述自准直望远镜。
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