[发明专利]一种垂直磁各向异性多层膜有效

专利信息
申请号: 201010119180.7 申请日: 2010-03-05
公开(公告)号: CN101752051A 公开(公告)日: 2010-06-23
发明(设计)人: 徐晓光;姜勇;李晓其;张德林 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: H01F10/10 分类号: H01F10/10
代理公司: 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) 11296 代理人: 刘淑芬
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种垂直磁各向异性多层膜[Ni(x)/Co2MZ(y)]n,其易磁化轴方向垂直于薄膜平面,属于磁性材料领域。其特征在于:Co2MZ为L21、B2或A2结构的半金属Heusler合金组分,M为Fe、Cr、Mn等元素,Z为Al、Si、Ge、B等元素,各层膜厚度x、y为0.6nm<x<20nm,0.4nm<y<5nm,[Ni(x)/Co2MZ(y)]周期结构的重复数目为2<n<20。本发明的优点在于:该薄膜具有高垂直磁各向异性场,可以通过控制Ni层与Co2MZ层的厚度调节矫顽力,并显著低于传统垂直磁各向异性膜的矫顽力,因此它可以用作垂直自旋阀或磁隧道结中的铁磁层,应用时能够克服小尺寸下的磁卷缩和涡旋磁畴结构,且矫顽力可调,能够满足超高灵敏度和存储密度的磁传感器或存储器的使用要求。
搜索关键词: 一种 垂直 各向异性 多层
【主权项】:
一种垂直磁各向异性多层膜,其特征在于:多层膜结构为[Ni(x)/Co2MZ(y)]n,Co2MZ为L21、B2或A2结构的半金属Heusler合金组分,M为Fe、Cr或Mn元素,Z为Al、Si、Ge或B元素,结构中,M位置为一种或两种元素占据,Z位置也为一种或两种元素占据,具体占据的比例不作要求,但要求保证Co∶M∶Z的原子比为2∶1∶1;各层膜厚度x、y为0.6nm<x<20nm,0.4nm<y<5nm,[Ni(x)/Co2MZ(y)]周期结构的重复数目为2<n<20。
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