[发明专利]一种利用微透镜列阵成像光刻的装置无效
申请号: | 201010121466.9 | 申请日: | 2010-03-10 |
公开(公告)号: | CN101794080A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 董小春;张为国;杜春雷;史立芳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 成金玉;贾玉忠 |
地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 一种利用微透镜列阵成像光刻的装置,包括光源、散射板、微透镜列阵、精密位移平台、记录介质基片、基片固定台和显微镜;散射板、成像物体、微透镜列阵、微透镜列阵固定台、记录介质基片、精密位移平台和显微镜依次位于光源后面的出射光路上并都垂直于光轴放置;光源发出的光通过散射板后产生漫射光照明成像物体;成像物体通过微透镜列阵成像在涂有记录介质的基片上;微透镜列阵固定台将微透镜列阵固定;精密位移平台驱动记录介质基片上下移动调焦;通过显微镜检测微透镜列阵是否成像在记录介质基片上;本装置结构简单,成本低,效率高;可以满足亚微米特征尺寸、几十平方厘米面积图形列阵的制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 利用 透镜 列阵 成像 光刻 装置 | ||
【主权项】:
一种利用微透镜列阵成像光刻的装置,其特征在于:包括曝光光源(1)、散射板(2)、成像物体(3)、微透镜列阵固定台(4)、微透镜列阵(5)、记录介质基片(6)、精密位移平台(7)、显微镜(8)、调焦照明光源(10);曝光光源(1)、散射板(2)、成像物体(3)、微透镜列阵固定台(4)和精密位移平台(7)彼此之间依次相隔一定距离;微透镜列阵(5)固定在微透镜列阵固定台(4)的光窗内;记录介质基片(6)固定在精密位移平台(7)的光窗内,记录介质基片(6)距微透镜列阵(5)的距离应等于像距;采用调焦照明光源(10)照明成像物体(3),微透镜列阵(5)位置始终固定,调整显微镜(8),当看到物体清晰的像时固定显微镜(8),再利用精密位移平台(7)驱动记录介质基板(6)上下移动,使得通过显微镜(8)可同时观察到成像物体(3)和记录介质基片(6)上标记(9)的像时,微透镜列阵(5)的像面与记录介质基片(6)已经在同一平面上,然后将记录介质基片(6)固定,到此调焦过程完成;移开调焦照明光源(10),将曝光光源(1)移至成像物体(3)正下方相应位置,打开曝光光源(1),曝光光源(1)发出的光通过散射板(2)照明成像物体(3);成像物体(3)通过微透镜列阵(5)成像在记录介质(6)上,根据记录介质基片6的成像结果,曝光显影后便可制备出微纳尺度图形列阵。
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