[发明专利]一种自适应高阶横模激光相干合成装置有效

专利信息
申请号: 201010121534.1 申请日: 2010-03-10
公开(公告)号: CN101794962A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 杨平;许冰;董理治;雷翔 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: H01S3/16 分类号: H01S3/16;H01S3/10
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 成金玉;贾玉忠
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 自适应高阶横模激光相干合成装置,由固体激光器、变形镜、光束匹配系统、CCD相机、分光反射镜、高压放大器、聚焦透镜、衰减系统、计算机组成。固体激光器输出的高阶横模激光经光束匹配系统扩束后入射到变形镜上,经变形镜反射的光束再依次经过分光反射镜、衰减系统、聚焦透镜,汇聚在焦点位置的CCD相机,内置于计算机的优化算法沿着让CCD相机上焦斑峰值强度增大的方向迭代计算出电压信号,该电压信号经高压放大器放大后加载到变形镜的各个驱动器上,驱动变形镜产生相应的形变,补偿高阶横模激光整体波前相位中的畸变、补偿高阶横模激光各节线两侧旁瓣π相位跃变、提升高阶横模激光的相干特性和可聚焦能力。本发明可以提升高阶横模光束间的相干性能和可聚焦能力。
搜索关键词: 一种 自适应 高阶横模 激光 相干 合成 装置
【主权项】:
一种自适应高阶横模激光相干合成装置,其特征在于包括:固体激光器(1)、光束匹配系统(2)、变形镜(3)、分光反射镜(4)、衰减系统(5)、聚焦透镜(6)、CCD相机(7)、计算机(8)和高压放大器(9);固体激光器(1)输出的高阶横模激光经过光束匹配系统(2)扩束入射到变形镜(3)上,经变形镜(3)反射的光束再经过分光反射镜(4)分光,绝多数能量的光束被反射输出,少数能量的透射光经过衰减系统(5)和聚焦透镜(6)会聚到CCD相机(7)上,内置于计算机(8)的优化算法用来处理计算机采集到的CCD相机(7)上的光斑信号,沿着使光斑峰值光强增大的方向,不断迭代计算出所需要的控制电压,该控制电压经过高压放大器(9)放大后加载在变形镜(3)的各个驱动器上,驱动变形镜(3)产生相应的形变,补偿高阶横模激光整体波前相位中的畸变、补偿高阶横模光束各节线两侧旁瓣π相位跃变、使高阶横模激光各个旁瓣在远场实现很好的相干合成,从而提升高阶横模激光束的相干特性,实现单台高阶横模激光相干合成输出。
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