[发明专利]相位差膜及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201010127064.X 申请日: 2010-03-04
公开(公告)号: CN101825734A 公开(公告)日: 2010-09-08
发明(设计)人: 佐藤惠;矶崎正义;林敬一;安藤秀树 申请(专利权)人: 新日铁化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/04;G02F1/13363;C08L83/07
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蒋亭;苗堃
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及相位差膜及其制造方法。提供具有规定延迟值、为高透明、且相位差的耐热性优异的相位差膜。相位差膜的制造方法,其中所述相位差膜是使含有(1)规定的硅树脂、以及(2)光聚合引发剂和/或(3)热聚合引发剂的树脂组合物固化,在100℃进行10小时加热处理后的相位差膜的相位差值变化量为0~20nm的相位差膜,该方法通过使树脂组合物中的上述(1)成分的不饱和基团减少0.1%~50%的一次固化而得到树脂成型体后,将该树脂成型体切成规定形状并固定在拉伸夹具上,在任意方向以拉伸倍率5~700%的范围进行拉伸而得到拉伸树脂成型体,在将该拉伸树脂成型体固定于拉伸夹具的状态下进一步加热和/或照射能量射线而使之二次固化,然后冷却到室温。
搜索关键词: 相位差 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种相位差膜,其特征在于,是使树脂组合物固化而成的相位差膜,在100℃进行10小时加热处理后的相位差膜的相位差值变化量为0~20nm的范围,所述树脂组合物含有(1)下述通式(1)所表示的数均分子量在1000~80000范围的硅树脂、以及(2)光聚合引发剂和/或(3)热聚合引发剂,式中,X是具有至少一个硅原子和至少一个芳香族基团的2价基团,R1是具有(甲基)丙烯酰基的有机官能团,R2表示具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基的有机官能团、碳原子数为1~25的脂肪烃、碳原子数为6~15的取代或未取代的脂环、或者碳原子数为6~15的取代或未取代的芳香环,l=1、m=1~3、n是2~290。
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