[发明专利]相位差膜及其制造方法无效
申请号: | 201010127064.X | 申请日: | 2010-03-04 |
公开(公告)号: | CN101825734A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 佐藤惠;矶崎正义;林敬一;安藤秀树 | 申请(专利权)人: | 新日铁化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B1/04;G02F1/13363;C08L83/07 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蒋亭;苗堃 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及相位差膜及其制造方法。提供具有规定延迟值、为高透明、且相位差的耐热性优异的相位差膜。相位差膜的制造方法,其中所述相位差膜是使含有(1)规定的硅树脂、以及(2)光聚合引发剂和/或(3)热聚合引发剂的树脂组合物固化,在100℃进行10小时加热处理后的相位差膜的相位差值变化量为0~20nm的相位差膜,该方法通过使树脂组合物中的上述(1)成分的不饱和基团减少0.1%~50%的一次固化而得到树脂成型体后,将该树脂成型体切成规定形状并固定在拉伸夹具上,在任意方向以拉伸倍率5~700%的范围进行拉伸而得到拉伸树脂成型体,在将该拉伸树脂成型体固定于拉伸夹具的状态下进一步加热和/或照射能量射线而使之二次固化,然后冷却到室温。 | ||
搜索关键词: | 相位差 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种相位差膜,其特征在于,是使树脂组合物固化而成的相位差膜,在100℃进行10小时加热处理后的相位差膜的相位差值变化量为0~20nm的范围,所述树脂组合物含有(1)下述通式(1)所表示的数均分子量在1000~80000范围的硅树脂、以及(2)光聚合引发剂和/或(3)热聚合引发剂,
式中,X是具有至少一个硅原子和至少一个芳香族基团的2价基团,R1是具有(甲基)丙烯酰基的有机官能团,R2表示具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基的有机官能团、碳原子数为1~25的脂肪烃、碳原子数为6~15的取代或未取代的脂环、或者碳原子数为6~15的取代或未取代的芳香环,l=1、m=1~3、n是2~290。
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