[发明专利]曝光装置及元件制造方法有效
| 申请号： | 201010127815.8 | 申请日： | 2005-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN101776850A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | 白石健一 | 申请（专利权）人： | 尼康股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京都千*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，在投影光学系统的像面侧形成液体的液浸区域，并透过投影光学系统与液浸区域的液体使基板曝光，其特征在于具备：测量形成该液浸区域的液体的溶存氮浓度的测量装置。
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