[发明专利]曝光装置及图像形成装置有效
申请号: | 201010131488.3 | 申请日: | 2010-03-04 |
公开(公告)号: | CN101825768A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 中村贤二 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G02B26/12 | 分类号: | G02B26/12 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 杨暄;吕静姝 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及曝光装置及图像形成装置。曝光装置包括多面镜(71)、反光镜(74、75)、第一透镜(72a)。多面镜(71)使得从多个光源射出的多个光束(L1、L2、L3、L4)朝着相对包含回转轴的平面对向的两方向偏转扫描,反光镜(74、75)设在多面镜(71)和感光体(2Y、2M、2C、2K)之间,将偏转的光束朝着感光体(2Y、2M、2C、2K)导向,第一透镜(72a)设在各光路上,具有fθ特性,将光束(L1、L2、L3、L4)聚光到感光体(2Y、2M、2C、2K)上。第一透镜(72a)在副扫描截面具有四个光学面A、B、C、D,光束(L1、L2、L3、L4)之中,两个光束(L2、L3)通过光学面。不受光束向光偏转器的偏转反射面的入射方式影响,能提高扫描透镜及折返部件配置的自由度,与本体的小型化对应。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 图像 形成 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,包括:光偏转器,将从多个光源射出的多个光束朝着相对包含回转轴的平面对向的两方向偏转扫描;至少一个折返部件,设在上述光偏转器和各被扫描面之间,将由上述光偏转器偏转的光束导向被扫描部件;以及至少一个光学成像手段,设在各光路上,将由上述光偏转器偏转的光束聚光到被扫描部件上;上述光学成像手段在副扫描截面,至少设有两组由入射面及射出面的组构成的一对光学面,上述多个光束之中至少两个光束通过上述光学成像手段的不同的一对光学面。
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