[发明专利]吸取装置无效
| 申请号： | 201010134671.9 | 申请日： | 2010-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN102205541A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 郭原隆 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B25J15/06 | 分类号： | B25J15/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种吸取装置，其用于吸取承载有多个待处理元件的托盘。该吸取装置包括一个能够自转的真空吸取器、一个具有至少两个吸嘴的吸盘、以及至少一个离子风扇。该吸盘能够移动地连接于该真空吸取器上。该真空吸取器用于产生真空以使该吸嘴吸附该托盘。该至少一个离子风扇安装于该吸盘上且用于产生正负离子并吹向该多个待处理元件以减少静电。本发明的吸取装置在利用吸盘吸取承载有多个待处理元件的托盘，并利用真空吸取器自转使该托盘移动至目的地的同时，使用离子风扇将产生的正负离子吹向待处理元件以中和待处理元件上的静电，保证制作待处理元件下一步工序的顺利进行，从而保证了待处理元件的最终品质。 | ||
| 搜索关键词： | 吸取 装置 | ||
【主权项】：
一种吸取装置，其用于吸取承载有多个待处理元件的托盘，该吸取装置包括一个能够自转的真空吸取器、一个具有至少两个吸嘴的吸盘、以及至少一个离子风扇，该吸盘能够移动地连接于该真空吸取器上，该真空吸取器用于产生真空以使该吸嘴吸附该托盘，该至少一个离子风扇安装于该吸盘上且用于产生正负离子并吹向该多个待处理元件以减少静电。
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