[发明专利]下划线删除装置有效
| 申请号： | 201010136232.1 | 申请日： | 2010-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN101859379A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 大峡光晴 | 申请（专利权）人： | 日立软件工程株式会社 |
| 主分类号： | G06K9/20 | 分类号： | G06K9/20;G06K9/34 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的下划线删除装置，从包含与字符串接触的下划线区域的二值图像数据中删除所述下划线区域，其特征为：具有下划线探索处理部，其以所述二值图像数据上的一点为起点，设置长方形的线样板，通过追踪该线样板中包含的像素，进行提取表示下划线位置坐标的折线的线样板匹配处理；以及下划线删除部，其进行根据所述折线求出所述下划线区域和背景区域的背景边界坐标、以及对所述下划线区域中的与所述字符串接触的部分进行插补处理而得到的所述下划线区域和所述字符串的字符边界坐标的处理，并进行通过所述背景区域的像素的颜色置换由所述背景边界坐标以及字符边界坐标包围的区域的处理。 | ||
| 搜索关键词： | 下划线 删除 装置 | ||
【主权项】：
一种下划线删除装置，其从包含与字符串接触的下划线区域的二值图像数据中删除所述下划线区域，其特征在于，具有：下划线探索处理部，其以所述二值图像数据上的一点为起点设置长方形的线样板，通过追踪该线样板中包含的像素，进行提取表示下划线位置坐标的折线的线样板匹配处理；以及下划线删除部，其进行根据所述折线求出所述下划线区域和背景区域的背景边界坐标、以及对所述下划线区域中的与所述字符串接触的部分进行插补处理而得到的所述下划线区域和所述字符串的字符边界坐标的处理，并进行从所述二值图像数据中删除由所述背景边界坐标以及字符边界坐标包围的区域的处理。
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