[发明专利]一种用于能量存储的纳米电容器及其制作方法无效
| 申请号： | 201010138066.9 | 申请日： | 2010-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN101800253A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 丁士进;朱宝 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | H01L29/92 | 分类号： | H01L29/92;H01L27/08;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;盛志范 |
| 地址： | 20043*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于能量存储器件技术领域，具体公开了一种用于能量存储的纳米电容器及其制作方法。该纳米电容器的制作方法包括：在硅或玻璃衬底上淀积一层金属铝膜；对金属铝进行两次阳极氧化得到阳极氧化铝模板；在模板的纳米孔隙中用ALD方法淀积底层金属电极、中间绝缘介质和顶层金属电极；在顶层金属电极表面淀积一层金属铝作为顶层集流体；通过光刻工艺和反应离子刻蚀将底层集流体暴露出来，并分别用导线将顶层和底层集流体引出，作为纳米电容的两个电极。本发明所公开的纳米电容器可以同时获得很高的功率和能量密度，而且制作工艺简单，成本较低，封装体积小。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 能量 存储 纳米 电容器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种用于能量存储的纳米电容器，其特征在于，该电容器以具有有序、多孔结构的阳极氧化铝为制作模板，采用ALD方法，在模板的微孔中依次淀积底层金属电极、中间绝缘介质和顶层金属电极而获得。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学，未经复旦大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010138066.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
