[发明专利]一种低张力ITO蚀刻液无效
申请号: | 201010139056.7 | 申请日: | 2010-04-01 |
公开(公告)号: | CN101792667A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 殷福华;栾成;邵勇;朱龙 | 申请(专利权)人: | 江阴市江化微电子材料有限公司 |
主分类号: | C09K13/00 | 分类号: | C09K13/00 |
代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 何军 |
地址: | 214423 江苏省江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种低张力ITO蚀刻液,其特征是它包括以下重量百分比的组份:草酸3.2~3.6、正己酸0.1~0.2、水96.2~96.6。本发明具有表面张力低于70和结晶温度低于5℃的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 张力 ito 蚀刻 | ||
【主权项】:
一种低张力ITO蚀刻液,其特征是它包括以下重量百分比的组份草酸 3.2~3.6正己酸 0.1~0.2水 96.2~96.6。
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