[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201010140503.0 | 申请日： | 2010-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN101853767A | 公开（公告）日： | 2010-10-06 |
| 发明（设计）人： | 林大辅 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/04 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够抑制在筒状容器的一方的端壁和移动电极之间的空间内产生等离子体的基板处理装置。基板处理装置(10)包括用于收纳晶圆(W)的筒状的腔室(11)、在该腔室(11)内沿腔室(11)的中心轴线移动自如的簇射头(23)、在腔室(11)内与簇射头(23)相对的基座(12)、和用于将簇射头(23)和腔室(11)的盖(14)连接起来的伸缩自如的波纹管(31)，向位于簇射头(23)和基座(12)之间的处理空间(PS)施加高频电力并导入处理气体，簇射头(23)和腔室(11)的侧壁(13)不接触，在位于簇射头(23)和盖(14)之间的上部空间(US)内配置有第1电容层(32)以及第2电容层(33)。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，包括：用于收纳基板的筒状容器、在该筒状容器内沿上述筒状容器的中心轴线移动自如的移动电极、在上述筒状容器内与上述移动电极相对的对置电极、以及用于将上述筒状容器的一端壁和上述移动电极连接起来的伸缩自如的分隔壁，对位于上述移动电极和上述对置电极之间的第1空间施加高频电力并导入处理气体，上述移动电极与上述筒状容器的侧壁不接触，其特征在于，在位于上述一方的端壁和上述移动电极之间的第2空间内配置至少一个低介电常数构件。
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