[发明专利]一种具有寄生匹配介质的广角照射馈源装置及微波天线无效

专利信息
申请号: 201010141202.X 申请日: 2010-03-31
公开(公告)号: CN102208716A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 赵铭 申请(专利权)人: 赵铭
主分类号: H01Q19/09 分类号: H01Q19/09;H01Q19/18
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 汤喜友
地址: 518028 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种具有寄生匹配介质的广角照射馈源装置及微波天线,所述具有寄生匹配介质的广角照射馈源装置包括导波介质、寄生匹配介质、金属反射面、反射匹配台阶等元件,寄生匹配介质在导波介质的侧表面上,金属反射面在导波介质的上表面上,反射匹配台阶位于金属反射面的底端,一次折射区位于导波介质和寄生匹配介质之间,二次折射区位于寄生匹配介质的外侧且与一次折射区平行,圆波导的一端插在导波介质和寄生匹配介质之间。微波天线包括抛物面以及具有寄生匹配介质的广角照射馈源装置,所述具有寄生匹配介质的广角照射馈源装置的一端固定在抛物面的顶端。本发明馈源装置配合短焦距抛物面来实现高性能和低轮廓的微波天线,并有效降低制造成本。
搜索关键词: 一种 具有 寄生 匹配 介质 广角 照射 馈源 装置 微波 天线
【主权项】:
一种具有寄生匹配介质的广角照射馈源装置,其特征在于,所述具有寄生匹配介质的广角照射馈源装置(10)包括导波介质(1)、寄生匹配介质(2)、金属反射面(3)、反射匹配台阶(4)、一次折射区(5)、二次折射区(6)、圆波导(7)和变模匹配段(8),寄生匹配介质(2)在导波介质(1)的侧表面上,金属反射面(3)在导波介质(1)的上表面上,反射匹配台阶(4)位于金属反射面(3)的底端,一次折射区(5)位于导波介质(1)和寄生匹配介质(2)之间,二次折射区(6)位于寄生匹配介质(2)的外侧且与一次折射区(5)平行,圆波导(7)的一端插在导波介质(1)和寄生匹配介质(2)之间,变模匹配段(8)位于导波介质(1)的中心轴线上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于赵铭,未经赵铭许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010141202.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top