[发明专利]硅单晶提拉用石英玻璃坩埚有效
| 申请号： | 201010143526.7 | 申请日： | 2010-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN101857969A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 小玉真喜子;岸弘史;神田稔 | 申请（专利权）人： | 日本超精石英株式会社 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 沈锦华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种石英玻璃坩埚，其可以在短时间内熔融硅原料，且可以借由不透明石英玻璃层随时间经过的状态变化而使硅单晶的制造良率提高。本发明的石英玻璃坩埚包括：设置在外表面侧的含有多个气泡的不透明石英玻璃层11、及设置在内表面侧的实质上不含气泡的透明石英玻璃层12。不透明石英玻璃层11所含的气泡的直径分布为：具有10～30μm的直径的气泡为10％以上且小于30％，具有40～90μm的直径的气泡为40％以上且小于80％，具有90μm以上的直径的气泡为10％以上且小于30％。不透明石英玻璃层11中的相对较小的气泡从提拉步骤的初期阶段起即有助于坩埚的传热性，相对较大的气泡借由经过长时间的提拉步骤而膨胀，在提拉步骤的后半期大大有助于坩埚的保温性。 | ||
| 搜索关键词： | 硅单晶提拉用 石英玻璃 坩埚 | ||
【主权项】：
一种硅单晶提拉用石英玻璃坩埚，其特征在于：包括侧壁部、弯曲部及底部，且包括设置在坩埚内表面侧的透明石英玻璃层、及设置在坩埚外表面侧的内含多个气泡的不透明石英玻璃层，所述透明石英玻璃层的气泡含有率为0.1％以下，所述不透明石英玻璃层的气泡含有率大于所述透明石英玻璃层的气泡含有率，所述不透明石英玻璃层所含的气泡的直径分布为：具有小于40μm的直径的气泡为10％以上且小于30％，具有40μm以上且小于90μm的直径的气泡为40％以上且小于80％，具有90μm以上的直径的气泡为10％以上且小于30％。
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