[发明专利]具有半导体薄膜的组合半导体装置有效
申请号: | 201010143609.6 | 申请日: | 2003-11-13 |
公开(公告)号: | CN101800183A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 荻原光彦;藤原博之;安孙子一松;佐久田昌明 | 申请(专利权)人: | 日本冲信息株式会社 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/60;H01L25/16;H01L23/52;B41J2/45 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧霁晨;李家麟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种半导体装置,包括接合到衬底的两个半导体薄膜,和将第一半导体薄膜中例如发光器件的半导体器件与第二半导体薄膜中的集成电路电连接的薄膜互连线。通常,该集成电路驱动该半导体器件。两个半导体薄膜与衬底分开形成。第一半导体薄膜可以包括半导体器件阵列。第一和第二半导体薄膜可以作为阵列被复制而接合到相同的衬底。与包含有阵列芯片和分离的驱动器芯片的常规半导体装置相比,本发明装置更小并且降低了材料成本。 | ||
搜索关键词: | 具有 半导体 薄膜 组合 装置 | ||
【主权项】:
一种制造组合半导体装置的方法,所述方法包括如下步骤:准备具有实质上是平的上表面的衬底;准备由使用不同于所述衬底的另一个衬底的工艺而形成的第一半导体薄膜;将所述第一半导体薄膜结合到所述衬底的所述上表面上的预先确定的区域上;准备由使用不同于所述衬底和所述第一半导体薄膜的又另一个衬底的工艺而形成的第二半导体薄膜;将所述第二半导体薄膜结合到所述衬底的所述上表面上的另一个预先确定的区域上;其中,所述第一和第二半导体薄膜中的每个具有不大于10微米的厚度;作为所述第一和第二半导体薄膜中的一个的主要材料有非晶硅、单晶硅、多晶硅或化合物半导体,并且所述第一和第二半导体薄膜中的一个包括至少一个半导体器件,以及作为所述第一和第二半导体薄膜中的另一个的主要材料有非晶硅、单晶硅、多晶硅或化合物半导体,并且所述第一和第二半导体薄膜中的另一个包括集成电路和第一端子;在所述第一和第二半导体薄膜的所述结合之后,通过光刻法形成薄膜金属层,通过所述衬底的所述上表面和被结合到所述衬底上的所述第一和第二半导体薄膜中的每个,所述金属层电连接所述第一半导体薄膜的所述半导体元件和所述第二半导体薄膜的所述第一端子。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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