[发明专利]一种将GDSⅡ文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法无效
| 申请号： | 201010143778.X | 申请日： | 2010-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101826127A | 公开（公告）日： | 2010-09-08 |
| 发明（设计）人： | 蒋兴华;李辉;李显杰 | 申请（专利权）人： | 芯硕半导体(中国)有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人： | 余成俊 |
| 地址： | 230601 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种将GDSII文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法。首先将GDSII中的矢量图形统一转换为多边形，再将每层大图分解为一系列曝光区域。将曝光区域中的多边形利用四叉树图形分割法将其分解为矩形，再将一个曝光区域的图形存储为几个位图文件，借助光刻机平台的高精度性，实现了用低分辨率位图曝光出高分辨率图形的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 gds 文件 转换 无掩模 光刻 曝光 数据 方法 | ||
【主权项】：
一种将GDSII文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)在计算机中，将待曝光的GDSII文件原图转换为只包含多个多边形的矢量图形，并以任意点为原点建立二维坐标系；(2)将步骤(1)得到的矢量图形分别按水平和竖直方向分割为多个面积相等的曝光区域；(3)采用四叉图形搜索树，将所述矢量图形中的所有多边形分别划分到其所在的曝光区域中；(4)采用四叉树图形分割法，将每个曝光区域中的多边形分别分解为矩形，分解得到的矩形的长度是x方向分辨率降低系数的整数倍，分解得到的矩形的宽度是y方向分辨率降低系数的整数倍；(5)将每个曝光区域中的矩形按照x方向偏移量和y方向偏移量进行分组，x方向偏移量和y方向偏移量均相同的矩形分为一个组；(6)在计算机中，将步骤(5)中每个曝光区域中划分后的多组矩形，分别转换为无掩模光刻机适用的低分辨率位图文件。
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