[发明专利]电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置有效
| 申请号： | 201010144915.1 | 申请日： | 2010-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101798675A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | 郭射宇 | 申请（专利权）人： | 苏州羿日新能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫 |
| 地址： | 215200 江苏省吴江市经济开*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，它包括：靶架、工作气体气源、反应气体气源、相对地设置在靶架上并均沿着纵向延伸的第一靶材和第二靶材，第一靶材和第二靶材相对的两个侧壁面分别向内凹陷形成溅射表面，且一对溅射表面之间形成靶腔；工作气体气源和反应气体气源分别位于靶腔的入口侧和出口侧，在阴极装置的横截面上，一对溅射表面之间的最小距离位于靶腔的出口处。本发明通过改变靶材的形状来改变电场的分布，靶腔内的电场强度的方向沿垂直于溅射表面的方向，因此使等离子体都被集中约束在一对靶材的中央区域，提高其密度，进而增大溅射速率。同时，本发明还能够有效的防止反应气体进入靶腔内，避免靶中毒。 | ||
| 搜索关键词： | 电场 约束 等离子体 线性 反应 溅射 镀膜 阴极 装置 | ||
【主权项】：
一种电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，它包括：靶架(7)、工作气体气源(1)、反应气体气源、相对地设置在所述的靶架(7)上并均沿着纵向延伸的第一靶材(81)和第二靶材(82)，所述的第一靶材(81)和第二靶材(82)分别与负极电源(14)相电连接，其特征在于：所述的第一靶材(81)和第二靶材(82)相对的两个侧壁面分别向内凹陷形成溅射表面(21)，且一对溅射表面(21)之间形成靶腔(11)；所述的工作气体气源(1)和反应气体气源分别位于所述的靶腔(11)的入口(17)侧和出口(18)侧，在垂直于所述的纵向的横向截面上，一对所述的溅射表面(21)之间的最小距离位于所述的靶腔(11)的出口处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州羿日新能源有限公司，未经苏州羿日新能源有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010144915.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种应急灯及其安装方法
- 下一篇：一种耐火隔热高压液体输送胶管
- 同类专利
- 专利分类
